Semiconductor
High-NA EUVがIntel 18Aの量産工程へ、累計処理は100万枚超
High-NA EUVがIntel 18Aの一部レイヤーの量産へ組み込まれた。現行の6インチマスクを使う製造経路を維持し、認定・試験、研究開発、…
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Intel Foundry
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High NA EUV露光を量産品の選択層に適用、累計処理は100万枚超
High NA EUV露光がIntel 18A量産品の選択層へ入り、装置認証、研究開発、量産を通じた累計処理枚数は100万枚を超えた。現行の6イ…