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Intel、アイルランドの半導体工場で増産投資を開始 投資額は50億ユーロ

この記事のポイント

  1. 実現したこと

    既存工場を使う半導体増産計画が、設備投資の実行段階に入った。

  2. 実現の仕組み

    製造施設と装置を更新し、自動搬送システムでキャンパス内の区画を結ぶ計画だ。

  3. 得られた結果

    投資額は50億ユーロで、Intel 3製造プロセスを使うXeon向けの生産能力拡大を目指す。

  4. 従来との違い

    設備投資プログラムは2026年の年初に実行を開始した。

半導体工場のクリーンルーム区画を結ぶ自動搬送システムと製造装置の概念図
AI生成画像

アイルランドの既存半導体工場で、製造設備と自動搬送システムを更新する増産投資が動き出した。Intelは50億ユーロを投じ、Intel 3製造プロセスを使うXeon向けの生産能力を拡大する計画だ。

50億ユーロの設備投資が実行段階へ

IntelはアイルランドのLeixlip拠点で、50億ユーロの設備投資を進める。投資プログラムの実行は2026年の年初に始まっており、既存工場の製造能力を増やすための整備に入っている。

既存工場の更新と製造装置の設置

拡張計画には、稼働中の製造施設の更新と先端製造装置の設置が含まれる。増強の対象は既存の工場施設であり、製造工程を担う設備の更新を通じて生産能力を拡大する計画だ。

分かれた区画を自動搬送システムで結ぶ

設備更新に加え、自動搬送システムも拡張する。キャンパス内で分かれている区画を一つの生産環境へ結ぶ構成で、拠点内の製造設備を連携させる計画だ。

既存のクリーンルームをIntel 3製Xeonの増産に活用

拡張には既存のクリーンルーム空間を活用する。Intelは、この拠点でIntel 3製造プロセスを使うXeon 6と次世代Xeonに対応するため、生産能力を拡大する計画だ。